https://www.kyoto-u.ac.jp/ja/research-news/2024-07-30
近年、高アスペクト比シリコン加工技術がエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス分野で注目されています。特に積層型の3次元高集積技術（3D-LSI）の研究が進んでおり、縦方向のシリ
この度、坂口浩司 エネルギー理工学研究所教授、小島崇寛 同助教、Cheng Yingbo 同博士後期課程学生、信末俊平 同助教、深見一弘 工学研究科准教授の研究チームは、新しい炭素細線製造法を開発し、この手法を用いて従来困難であった酸素ドープ型グラフェンナノリボン（GNR）の合成に成功しました。この新材料は、従来用いられてきた貴金属を凌駕する著しく高いシリコンプロセス触媒性能を発現することを明らかにしました。シリコン半導体加工技術への革新的応用が期待されます。
本研究成果は、2024年7月29日に、国際学術誌「Nature Communications」にオンライン掲載されました。
研究者のコメント
「置換基の無いGNRの超高真空製造法は確立されていましたが、置換基を導入した機能性GNRの薄膜形成技術は原理的に困難でした。この問題を解決するために電気化学的製造法を開発し、何百サンプルものトライアルを続けて、走査トンネル顕微鏡でGNRの姿を確認できた時の喜びは忘れられません。」（小島崇寛）研究者情報
書誌情報
【DOI】
https://doi.org/10.1038/s41467-024-50086-6
【書誌情報】
Hiroshi Sakaguchi, Takahiro Kojima, Yingbo Cheng, Shunpei Nobusue Kazuhiro Fukami (2024). Electrochemical on-surface synthesis of a strong electron-donating graphene nanoribbon catalyst. Nature Communications, 15, 5972.
メディア掲載情報
日本経済新聞（7月30日 19面）、日刊工業新聞（7月30日 25面）に掲載されました。
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