https://www.nikkei.com/article/DGXZQOCD115YC0R10C24A9000000/
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先端半導体の製造に欠かせない極端紫外線（EUV）露光装置は、現在オランダのASMLホールディングが市場を独占している。この大型装置の設計を大幅に簡素化し、消費電力を10分の1にする新技術を沖縄科学技術大学院大学（OIST）の新竹積教授が開発した。新竹教授は様々な技術分野で独創的な成果を発表している著名研究者。EUV露光装置の価格破壊にもつながる新発明に注目が高まっている。
半導体露光装置は、微細...
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