「次世代半導体」開発加速…二次元材料を容易に転写、九大・日東電工などが新手法

https://news.yahoo.co.jp/articles/5d95bbd9e82cae16bfafe8dfab1c274c97ab4fa9

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九州大学の吾郷浩樹主幹教授や日東電工などの研究チームは13日、紫外線（UV）を当てると粘着力が10分の1程度に低下する、グラフェンなどの2次元（2D）材料向けの機能性テープ（UVテープ）を開発したと発表した。保護膜や有機溶媒を使わずに、2D材料を簡単に転写できるようになる。次世代半導体の開発を加速する技術になる。 粘着力の強いUVテープをグラフェンに密着させた後、UV光を照射して電気化学剥離を行い、粘着力が弱まった状態で基板に転写する。UV光でグラフェンと粘着剤のファンデルワールス力を制御して転写する仕組み。人工知能（AI）を使ってグラフェンに適したテープを開発し、最大99％の転写率を実現。従来の高分子転写よりも欠陥などが少なく、短時間で転写が行える。 九大などのほか、二次元材料研究所（福岡市博多区）、中央大学、大阪大学、産業技術総合研究所の研究チームが新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）の支援を受けて開発した。 テープ転写はグラフェンだけでなく、半導体や絶縁体の2D材料に使えるほか、大面積への転写も可能。2D材料の転写・製造プロセスを効率化することができる。 今回、テープ転写したグラフェンを用いてフレキシブルなテラヘルツ（テラは1兆）センサーを試作。さらにグラフェンのトランジスタを作製し、UVテープの転写膜により高い移動度が得られることも確認した。

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最終更新:2/18(日) 11:10

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