2024年7月16日火曜日

半導体微細化に貢献…リンテック、EUVペリクル量産へ 2024年07月16日




CNT製ペリクルのイメージ(imec提供)

ペリクルはフォトマスク(半導体回路原版)の表面に装着する薄い防塵膜で、半導体製造の前工程である露光の生産性を高められる。CNTは高温環境下でも化学変化や強度低下を起こしにくい特性を有する。

リンテックは米国テキサス州の研究開発拠点「ナノサイエンス&テクノロジーセンター」で作ったフルサイズの初期サンプルを提供し始めた。次の段階として日本国内で量産品質に近いサンプルを作り、順次提供していく。

2025年度までに約50億円をかけて、第1次の量産体制を敷く計画だ。

同社は2024年初頭まで6年間、ベルギーの研究機関であるimec(アイメック)とEUV露光用CNTペリクルを共同研究してきた実績がある。その関連データを基に、現在、量産立ち上げを進めている。後工程材料に強い同社としては、前工程への新規参入で半導体関連事業の拡大を狙う。

次世代ペリクルをめぐっては、三井化学が岩国大竹工場(山口県和木町)に生産設備を導入し25年12月に完工予定。


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