https://xtech.nikkei.com/atcl/nxt/column/18/00001/09397/
https://xtech.nikkei.com/atcl/nxt/column/18/00001/09397/
キヤノン子会社のキヤノンアネルバと東北大学は、真空を利用した室温接合技術を実用化した。室温で金属や酸化物、窒化物の薄膜を介してあらゆる物質同士を無加圧で接合できる。活用先は、高周波用のフィルター素子や、炭化ケイ素(SiC)ウエハーの薄化、光学部品、パワーデバイスなどだ。将来的には、ハイブリッドボンディング(ハイブリッド接合)に活用できる可能性がある。
0 コメント:
コメントを投稿